西門(mén)子EDI膜堆-IP-LXM45Z

西門(mén)子EDI膜堆-IP-LXM45Z

1.西門(mén)子EDI膜堆介紹

西門(mén)子EDI膜堆是一種使用連續(xù)電去離子（CEDI）技術(shù)的水處理設(shè)備。CEDI是一種深度去離子技術(shù)，它結(jié)合了離子交換樹(shù)脂和電場(chǎng)作用下的離子遷移。具體來(lái)說(shuō)，當(dāng)?shù)M(jìn)入淡水室后，其中的離子與混床樹(shù)脂發(fā)生離子交換，從而從水中脫離。這些被交換的離子受到電性的吸引作用，陽(yáng)離子穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜向陰極遷移，而陰離子穿過(guò)陰離子交換膜向陽(yáng)極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。這個(gè)過(guò)程在模塊內(nèi)部形成了一個(gè)動(dòng)態(tài)平衡，其中樹(shù)脂既消耗又再生。

與傳統(tǒng)的需要化學(xué)藥劑再生的離子交換相比，CEDI技術(shù)可以連續(xù)運(yùn)行而不需要化學(xué)藥劑再生，因此操作更簡(jiǎn)單，運(yùn)行成本也顯著降低。

西門(mén)子EDI膜堆IP-LXM45Z技術(shù)參數(shù)

IP-LXM45Z是西門(mén)子的一款EDI（電去離子）膜塊，屬于工業(yè)除鹽系列中產(chǎn)水量最大、尺寸最長(zhǎng)、運(yùn)輸重量和工作重量都最重的產(chǎn)品。以下是IP-LXM45Z的主要技術(shù)參數(shù)：

1. 最小產(chǎn)水流量：2.55m3/h（11.3gpm）

2. 名義產(chǎn)水流量：5.1m3/h（22.5gpm）

3. 設(shè)計(jì)產(chǎn)水流量范圍：5.1~7.67m3/h（22.5~33.8gpm）

4. 運(yùn)輸重量：205kg（451lbs）

5. 工作重量：157kg（345lbs）

6. 安裝槽中心距：747.7mm

7. 進(jìn)水電導(dǎo)率：< 40 pS/cm

8. 回收率：90~95%

9. 最高允許進(jìn)水壓力：7bar（100psi）

10. 名義產(chǎn)水量流量時(shí)的壓降范圍：1.7~2.5bar（25~37psi）

11. 最高允許進(jìn)水溫度：45℃（113℉）

12. 硅（SiO2）去除率：90~99%

此外，IP-LXM45Z的EDI膜塊具有原水回收率高、無(wú)需加熱、加壓和添加化學(xué)品、成分幾乎無(wú)變質(zhì)、無(wú)污染、工藝清潔等性能優(yōu)勢(shì)。

請(qǐng)注意，以上數(shù)據(jù)僅供參考，具體的技術(shù)參數(shù)可能會(huì)因產(chǎn)品設(shè)計(jì)和制造過(guò)程中的改進(jìn)而有所變化。因此，在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中，請(qǐng)參考產(chǎn)品說(shuō)明書(shū)或與供應(yīng)商聯(lián)系以獲取最準(zhǔn)確的技術(shù)參數(shù)信息。

3.西門(mén)子EDI膜IP-LXM45Z堆最低進(jìn)水水質(zhì)要求

4.西門(mén)子EDI膜IP-LXM45Z堆流量和物理規(guī)格

5.西門(mén)子EDI膜堆IP-LXM45Z的尺寸及重量：

6.西門(mén)子EDI膜堆IP-LXM45Z的應(yīng)用領(lǐng)域:

西門(mén)子EDI膜堆的應(yīng)用領(lǐng)域相當(dāng)廣泛，以下是其主要的應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 實(shí)驗(yàn)室和科研機(jī)構(gòu)：在進(jìn)行科學(xué)實(shí)驗(yàn)和研究時(shí)，實(shí)驗(yàn)室和科研機(jī)構(gòu)需要使用到高純度的水，以保證實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。西門(mén)子EDI膜堆技術(shù)能夠減少水中的雜質(zhì)和各種微量化學(xué)成分，為實(shí)驗(yàn)室提供清潔的水質(zhì)，是實(shí)驗(yàn)室必備的設(shè)備。

2. 電子工業(yè)：在生產(chǎn)過(guò)程中，電子工業(yè)需要使用到高純度的水，如玻璃外殼、顯像管、液晶顯示器、微電路板、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、集成電路芯片和單晶硅半導(dǎo)體等。西門(mén)子EDI膜堆技術(shù)能夠滿足電子工業(yè)對(duì)水質(zhì)的高要求，防止離子和有機(jī)物質(zhì)污染產(chǎn)品，影響其性能。

3. 醫(yī)藥生產(chǎn)：醫(yī)藥生產(chǎn)過(guò)程中，對(duì)水質(zhì)中雜質(zhì)的要求相對(duì)較高。西門(mén)子EDI膜堆技術(shù)可以提供高純度的水，滿足醫(yī)藥生產(chǎn)對(duì)水質(zhì)的要求，保證藥品的質(zhì)量和安全。

4. 電力行業(yè)：火力發(fā)電廠在燃燒煤炭等燃料時(shí)，會(huì)產(chǎn)生大量的離子和有機(jī)物質(zhì)，這些物質(zhì)會(huì)影響鍋爐的運(yùn)行和設(shè)備的壽命。西門(mén)子EDI膜堆技術(shù)可以去除水中的這些物質(zhì)，提高鍋爐的運(yùn)行效率和設(shè)備的壽命。

5. 化工行業(yè)：化工生產(chǎn)過(guò)程中需要使用到高純度的水，以防止離子和有機(jī)物質(zhì)污染產(chǎn)品，影響其性能。西門(mén)子EDI膜堆技術(shù)能夠?yàn)榛ば袠I(yè)提供清潔的水質(zhì)，滿足其對(duì)水質(zhì)的需求。

6. 食品飲料行業(yè)：食品飲料行業(yè)對(duì)水質(zhì)的要求較高，以保證產(chǎn)品的質(zhì)量和安全。西門(mén)子EDI膜堆技術(shù)能夠提供高純度的水，滿足食品飲料行業(yè)對(duì)水質(zhì)的要求。

此外，西門(mén)子EDI膜堆技術(shù)還可以應(yīng)用于工業(yè)清洗、水質(zhì)凈化、醫(yī)療設(shè)備制造等領(lǐng)域?？傊?，西門(mén)子EDI膜堆技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域十分廣泛，幾乎涉及到所有需要高純度水質(zhì)的行業(yè)。

7.西門(mén)子EDI膜堆IP-LXM45Z的常見(jiàn)問(wèn)題及解決辦法:

西門(mén)子EDI膜堆的常見(jiàn)問(wèn)題及解決辦法如下：

1. 膜堆漏水：

   * 故障原因：可能是膜堆在運(yùn)輸或操作時(shí)松脫，或膜堆本身有缺陷，或受到外部重?fù)魧?dǎo)致?lián)p壞。

   * 解決方法：將膜堆擰緊或聯(lián)系當(dāng)?shù)胤?wù)供應(yīng)商。同時(shí)，檢查膜堆密封件是否完好，如有老化或破損，應(yīng)及時(shí)更換。

2. 管道漏水：

   * 故障原因：膜堆的接頭松脫。

   * 解決方法：將接頭擰緊，并對(duì)墊圈進(jìn)行檢查。

3. 產(chǎn)水水質(zhì)差：

   * 故障原因：操作電流設(shè)定不正確，樹(shù)脂被污染。

   * 解決方法：測(cè)量進(jìn)水電導(dǎo)率和二氧化碳，并根據(jù)需要做出調(diào)整；清洗IP-LXM30Z模塊；檢查膜堆內(nèi)部是否有明顯的膜片破損現(xiàn)象，如有必要進(jìn)行膜片更換。

4. 流量減小或進(jìn)水壓力增加：

   * 故障原因：膜堆產(chǎn)生結(jié)垢、污堵或被氧化；下游堵塞；系統(tǒng)污堵或被碎料堵塞；進(jìn)水流量減小。

   * 解決方法：清洗膜堆；檢查下游閥門(mén)狀態(tài)；檢查上游的閥門(mén)狀態(tài)，檢查是否存在漏水；檢查進(jìn)水水源的狀況。

5. 膜堆電導(dǎo)率異常：

   * 故障原因：膜堆內(nèi)部膜片污染或膜堆電極失效。

   * 解決方法：清洗膜堆，如清洗無(wú)效則更換膜片；使用萬(wàn)用表等工具檢測(cè)電極是否失效，如有必要及時(shí)更換。

6. 膜堆壓力異常：

   * 故障原因：膜堆進(jìn)水閥門(mén)關(guān)閉不嚴(yán)或膜堆阻塞。

   * 解決方法：檢查進(jìn)水閥門(mén)狀態(tài)，如正常則進(jìn)行膜堆清洗；如清洗無(wú)效，可能是膜堆阻塞導(dǎo)致，需進(jìn)一步處理。

請(qǐng)注意，以上內(nèi)容僅供參考，建議根據(jù)具體情況和實(shí)際需要選擇相應(yīng)的解決辦法。同時(shí)，進(jìn)行任何維修操作前，請(qǐng)確保已經(jīng)充分理解相關(guān)風(fēng)險(xiǎn)，并采取適當(dāng)?shù)陌踩胧Ｈ绻麊?wèn)題復(fù)雜或無(wú)法解決，建議聯(lián)系專業(yè)的技術(shù)支持或服務(wù)人員。